PEALD系統是一種化學氣相沉積技術，廣泛應用于微電子設備制造、太陽能電池和納米材料研究等領域。以原子層沉積技術為基礎，通過在反應室中交替注入兩種氣體，執行反應和清洗過程，實現對表面沉積物的逐層生長。
PEALD系統的組成由四個主要部分構成：反應室、進氣系統、真空系統和控制系統。其中反應室是最重要的組成部分，用于承載沉積表面和反應氣體。反應室具有良好的密封性能，以確保反應氣體能夠準確傳遞到沉積表面。反應室內部的沉積表面是由基板表面形成的，在表面形成的沉積物層上進行PEALD沉積。
1、進氣系統是用于控制反應室內的氣體流量和壓力的系統。它通常包括兩個進氣口，一個用于注入反應氣體，另一個用于清洗反應室。這些氣體的流量和壓力受到精密控制，以確保PEALD沉積具有高度的均勻性和可重復性。
2、真空系統是保持反應室處于高真空狀態的關鍵組成部分。它包括真空管和泵，以便將空氣和雜質氣體從反應室中抽取出來。高質量的真空狀態對于PEALD沉積過程非常重要，因為它有助于反應氣體沉積在基板表面上。
3、控制系統通常是一個計算機控制的系統，用于實時監控和控制各種參數，如反應氣體流量，真空度和沉積速率。這個系統通過傳感器和監測器進行反應數據的獲取和分析，并向操作員提供PEALD沉積過程中的實時反饋信息。
PEALD系統的性能特點：
1、高準確性：該系統可以在超薄的基板上制備出高質量的薄膜，具有很高的準確性。
2、單一分子沉積：該系統可以單一分子的進行沉積，可以有效的控制化學反應。
3、非常規材料：該系統可以非常規材料，如非晶硅、氮化硅、銅等進行沉積，使其應用范圍更加廣泛。
4、使用方便：該系統操作簡單，只需要進行一些簡單的調節就可以進行沉積。
5、高質量：基于單粒子級別的反應，制備的薄膜具有高質量和優異的成膜率，同時具有良好的抗氧化性能。
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更新時間：2023-03-21 
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