等離子去膠機是石英腔的微波等離子系統，可以安裝到超凈間墻上。該系列的微波等離子系統可以用于批處理，也可以作為單片處理，系統為計算機全自動控制的系統。典型工藝包含：大劑量離子注入后的光刻膠去除；干法刻蝕工藝的前處理或后處理；MEMS制造中的犧牲層去除。
去膠工藝是微加工實驗中一個非常重要的過程。在電子束曝光、紫外曝光等微納米加工工藝之后，都需要對光刻膠進行去除或打底膜處理。光刻膠去除的是否干凈*、對樣片是否有損傷等問題將直接影響到后續工藝的順利完成。德國ALPHA PLAMSA擁有多年的去膠經驗，致力于給您提供專業的微波等離子體去膠機系統，并提供專業的技術支持服務。
等離子去膠機操作規程：
1、自動切割小車應經空車運轉，并選定切割速度；
2、使用釷、鎢電極應符合JGJ33-2001第12.7.8條規定；
3、高頻發生器應設有屏蔽護罩，用高頻引弧后，應立即切斷高頻電路；
4、應檢查并確認電源、氣源、水源無漏電、漏氣、漏水，接地或接零安全可靠；
5、操作人員應站在上風處操作?？蓮墓ぷ髋_下部抽風，并宜縮小操作臺上的敞開面積；
6、小車、工件應放在適當位置，并應使工件和切割電路正極接通，切割工作面下應設有溶渣坑；
7、等離子去膠機應根據工件材質、種類和厚度選定噴嘴孔徑，調整切割電源、氣體流量和電極的內縮量；
8、當空載電壓過高時，應檢查電器接地、接零和割炬手把絕緣情況，應將工作臺與地面絕緣，或在電氣控制系統安裝空載斷路斷電器；
9、微波等離子去膠機操作人員必須戴好防護面罩、電焊手套、帽子、濾膜防塵口罩和隔音耳罩。不戴防護鏡的人員嚴禁直接觀察等離子弧，裸露的皮膚嚴禁接近等離子弧。
等離子去膠機操作及配合人員防護：
1、作業后，應切斷電源，關閉氣源和水源；
2、高空切割時，必須系好安全帶，切接切割周圍和下方應采取防火措施，并應有專人監護；
3、現場使用的等離子切割機機，應設有防雨、防潮、防曬的機棚，并應裝設相應的消防器材；
4、雨天不得在露天焊割。在潮濕地帶作業時，操作人員應站在鋪有絕緣物品的地方，并應穿絕緣鞋；
5、對承壓狀態的壓力容器及管道、帶電設備、承載結構的受力部位和裝有易燃、易爆物品的容器嚴禁進行切割；
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更新時間：2019-06-24 
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