全自動磁控濺射系統帶有水冷或者加熱(可加熱到700度)功能，可達到6"旋轉平臺，支持到4個偏軸平面磁控管。系統配套渦輪分子泵，極限真空可達10-7Torr，15分鐘內可以達到10-6Torr的真空。通過調整磁控管與基片之間的距離，可以獲得想要的均勻度和沉積速度。
全自動磁控濺射系統的產品特點：
不銹鋼腔體
260l/s或350l/s的渦輪分子泵，串接機械泵或干泵
13.56MHz，300-600WRF射頻電源以及1KWDC直流電源
晶振夾具具有的<1?的厚度分辨率
帶觀察視窗的腔門易于上下載片
基于LabView軟件的PC計算機控制
帶密碼保護功能的多級訪問控制
*的安全聯鎖功能
預真空鎖以及自動晶圓片上/下載片
選配項：
RF、DC濺射
熱蒸鍍能力
RF或DC偏壓(1000V)
樣品臺可加熱到700°C
膜厚監測儀
基片的RF射頻等離子清洗
全自動磁控濺射系統的應用：
晶圓片、陶瓷片、玻璃白片以及磁頭等的金屬以及介質涂覆，光學以及ITO涂覆，帶高溫樣品臺和脈沖DC電源的硬涂覆。
產品分類
更新時間：2022-05-10 
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