掩模板清洗機產生等離子體的裝置是在密封容器中設置兩個電極形成電場，用真空泵實現一定的真空度，隨著氣體愈來愈稀薄，分子間距及分子或離子的自由運動距離也愈來愈長，受電場作用，微波等離子清洗機發生碰撞而形成等離子體，這些離子的活性很高，其能量足以破壞幾乎所有的化學鍵，在任何暴露的表面引起化學反應，不同氣體的等離子體具有不同的化學性能，如氧氣的等離子體具有很高的氧化性，能氧化光刻膠反應生成氣體，從而達到清洗的效果；腐蝕性氣體的等離子體具有很好的各向異性，這樣就能滿足刻蝕的需要。微波等離子清洗機利用等離子處理時會發出輝光，故稱之為輝光放電處理。
掩模板清洗機的應用：
1.帶圖案或不帶圖案的掩模版和晶圓片
2.Ge,GaAs以及InP晶圓片清洗
3.CMP處理后的晶圓片清洗
4.晶圓框架上的切粒芯片清洗
5.等離子刻蝕或光刻膠剝離后的清洗
6.帶保護膜的分劃版清洗
7.掩模版空白部位或接觸部位清洗
8.X射線及極紫外掩模版清洗
9.光學鏡頭清洗
10.ITO涂覆的顯示面板清洗
11.兆聲輔助的剝離工藝
掩模板清洗機還提供了一系列的選配功能。PVA軟毛刷提供了機械的方式去除無圖案基片上的污點和殘膠。DI水臭氧化的選配項提供了有機物的去除，而無須腐蝕性的化學試劑。我們的氫化DI水系統跟兆聲能量結合可以達到納米級的顆粒去除。根據不同的應用，某些選配項將會進一步提高設備去除不想要的顆粒和殘留物的能力。
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更新時間：2022-08-25 
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