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刻蝕機濕法刻蝕相對于等離子刻蝕反應離子刻蝕一體機的缺點

更新時間:2015-09-07      瀏覽次數:3491
   等離子刻蝕反應離子刻蝕一體機又叫等離子蝕刻機、等離子平面刻蝕機、等離子體刻蝕機、等離子表面處理儀、等離子清洗系統等。等離子刻蝕,是干法刻蝕中zui常見的一種形式,其原理是暴露在電子區域的氣體形成等離子體,由此產生的電離氣體和釋放高能電子組成的氣體,從而形成了等離子或離子,電離氣體原子通過電場加速時,會釋放足夠的力量與表面驅逐力緊緊粘合材料或蝕刻表面。某種程度來講,等離子清洗實質上是等離子體刻蝕的一種較輕微的情況。進行干式蝕刻工藝的設備包括反應室、電源、真空部分。工件送入被真空泵抽空的反應室。氣體被導入并與等離子體進行交換。等離子體在工件表面發生反應,反應的揮發性副產物被真空泵抽走。等離子體刻蝕工藝實際上便是一種反應性等離子工藝。近期的發展是在反應室的內部安裝成擱架形式,這種設計的是富有彈性的,用戶可以移去架子來配置合適的等離子體的蝕刻方法:反應性等離子體(RIE),順流等離子體(downstream),直接等離子體(direction plasma)。

  等離子刻蝕反應離子刻蝕一體機的應用
  等離子體清除浮渣
  光阻材料剝離
  表面處理
  各向異性和各向同性失效分析應用
  包裝清洗
  鈍化層蝕刻
  聚亞酰胺蝕刻
  增強粘接力
  生物醫學應用
  聚合反應
  混合物清洗
  預結合清洗

  刻蝕機濕法刻蝕相對于等離子刻蝕反應離子刻蝕一體機的缺點
  1. 硅片水平運行,機片高(等離子刻蝕去PSG槽式浸泡甩干,硅片受沖擊小);
  2. 下料吸筆易污染硅片(等離子刻蝕去PSG后甩干);
  3. 傳動滾抽易變形(PVDF,PP材質且水平放置易變形);
  4. 成本高(化學品刻蝕代替等離子刻蝕成本增加)。
  此外,有些等離子刻蝕機,如SCE等離子刻蝕機還具備“綠色”優勢:無氟氯化碳和污水、操作和環境安全、排除有毒和腐蝕性的液體。SCE等離子刻蝕機支持以下四種平面等離子體處理模式:
  直接模式——基片可以直接放置在電極托架或是底座托架上,以獲得zui大的平面刻蝕效果。
  定向模式——需要非等向性刻蝕(anisotropic etching)的基片可以放置在特制的平面托架上。
  下游模式——基片可以放置在不帶電托架上,以便取得微小的等離子體效果。
  定制模式——當平面刻蝕配置不過理想時,特制的電極配置可以提供。


等離子刻蝕反應離子刻蝕一體機
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