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反應離子刻蝕機檢驗操作及判斷
反應離子刻蝕機檢驗操作及判斷
更新時間：2016-01-23
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反應離子刻蝕機是一款獨立式RIE反應離子刻蝕系統，配套有淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品。具有不銹鋼柜子以及13"的上蓋式圓柱形鋁腔，便于晶圓片裝載.腔體有兩個端口：一個帶有2"的視窗,另一個空置用于診斷。反應離子刻蝕機可以支持zui大到12"的晶圓片。腔體為超凈設計，并且根據配套的真空泵可以達到10-6 Torr 或更小的極限真空。反應離子刻蝕機系統可以在20mTorr到8Torr之間的真空下工作。真空泵組包含一個節流閥，一個250l/s的渦輪分子泵，濾網過濾器，以及一個10cfm的機械泵(帶Formblin泵油)。RF射頻功率通過600W，13.56MHz的電源和自動調諧器提供。系統將持續監控直流自偏壓，該自偏壓可以高達-500V，這對于各向異性的刻蝕至關重要。
反應離子刻蝕機是基于PC控制的全自動系統。系統真空壓力及DC直流偏壓將以圖形格式實時顯示，流量及功率則以數字形式實時顯示。系統提供密碼保護的四級訪問功能:操作員級、工程師級、工藝人員級，以及維護人員級。允許半自動模式(工程師模式)、寫程序模式(工藝模式)，和全自動執行程序模式(操作模式)運行系統。基于全自動的控制，該系統具有高度的可重復性。
反應離子刻蝕機檢驗操作及判斷
1. 確認萬用表工作正常，量程置于200mV。
2.冷探針連接電壓表的正電極，熱探針與電壓表的負極相連。
3.用冷、熱探針接觸硅片一個邊沿不相連的兩個點，電壓表顯示這兩點間的電壓為正值，說明導電類型為P 型，刻蝕合格。相同的方法檢測另外三個邊沿的導電類型是否為P型。
4.如果經過檢驗，任何一個邊沿沒有刻蝕合格，則這一批硅片需要重新裝片，進行刻蝕。
18916157635
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